7纳米光刻机,3纳米光刻机

光刻机市场"变天",年底或可生产7纳米,华为又一"靠山"出手
asml duv光刻机亮相进博会 可用于制造7nm制程芯片
型号:nxe:3400b 类型:极紫外光刻机 制程:7纳米和5纳米 效率:1小时125
很多人对于光刻机有一个误解,认为划分光刻机等级是按照纳米来划分的
1.2亿美元7纳米极紫外线光刻机,工作时内部科幻一样